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上海昭沅提供石英基片、石英板、菲林板等光刻掩膜版，根據客戶需求定制！
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掩膜版（Photomask），又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。掩膜版是芯片制造過 程中的圖形“底片”，用于轉移高精密電路設計，承載了圖形設計和工藝技術等知識產權信息。掩模版用于芯片 的批量生產，是下游生產流程銜接的關鍵部分，是芯片精度和質量的決定因素之一。
掩膜版根據基板材質的不同可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。石英掩膜版使用 石英玻璃作為基板材料，光學透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整耐磨，使用壽命長，主要用于高 精度掩膜版；蘇打掩膜版則使用蘇打玻璃作為基板材料，光學透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整 度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版；而凸版使用不飽和聚丁二烯樹脂作為基板材料，主 要用于液晶顯示器（LCD）制造過程中的定向材料移?。环屏质褂?PET 作為基板材料，主要用于電路板掩膜。
2.5英寸-9英寸尺寸范圍都可定制。
掩膜版應用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領域都需要使用掩膜版。
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