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上海昭沅提供石英基片、石英板、菲林板等光刻掩膜版，根據(jù)客戶需求定制！
上海昭沅提供石英基片、石英板、菲林板等光刻掩膜版，根據(jù)客戶需求定制！
掩膜版（Photomask），又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉(zhuǎn)印到產(chǎn)品基板上。掩膜版是芯片制造過 程中的圖形“底片”，用于轉(zhuǎn)移高精密電路設(shè)計，承載了圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息。掩模版用于芯片 的批量生產(chǎn)，是下游生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是芯片精度和質(zhì)量的決定因素之一。
掩膜版根據(jù)基板材質(zhì)的不同可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）。石英掩膜版使用 石英玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整耐磨，使用壽命長，主要用于高 精度掩膜版；蘇打掩膜版則使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整 度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版；而凸版使用不飽和聚丁二烯樹脂作為基板材料，主 要用于液晶顯示器（LCD）制造過程中的定向材料移?。环屏质褂?PET 作為基板材料，主要用于電路板掩膜。
2.5英寸-9英寸尺寸范圍都可定制。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版。
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